A funcionalidade de pesquisa está em construção.
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Automatic Defect Pattern Detection on LSI Wafers Using Image Processing Techniques Detecção automática de padrões de defeitos em wafers LSI usando técnicas de processamento de imagem

Kazuyuki MARUO, Tadashi SHIBATA, Takahiro YAMAGUCHI, Masayoshi ICHIKAWA, Tadahiro OHMI

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Resumo:

Este artigo descreve um método de detecção de defeitos que extrai automaticamente informações de defeitos de padrões LSI de fundo complicados. Com base em uma imagem de microscópio eletrônico de varredura (MEV), os defeitos no wafer são caracterizados em termos de localização, tamanho e formato dos defeitos. Para tanto, duas técnicas de processamento de imagens, a transformada de Hough e a transformada wavelet, foram empregadas. Especialmente, a Transformada de Hough para círculos é aplicada a defeitos não circulares para estimar as formas dos defeitos. Através de experiências, foi demonstrado que o sistema é muito eficaz na identificação de defeitos e será utilizado como parte integrante em futuros sistemas automáticos de classificação de padrões de defeitos.

Publicação
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E82-C No.6 pp.1003-1012
Data de publicação
1999/06/25
Publicitada
ISSN online
DOI
Tipo de Manuscrito
PAPER
Categoria
Eletrônica Integrada

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