A funcionalidade de pesquisa está em construção.
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METROPOLE-3D: An Efficient and Rigorous 3D Photolithography Simulator METROPOLE-3D: um simulador de fotolitografia 3D eficiente e rigoroso

Andrzej J. STROJWAS, Xiaolei LI, Kevin D. LUCAS

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Resumo:

Neste artigo apresentamos um rigoroso simulador de litografia vetorial 3D METROPOLE-3D que foi projetado para funcionar moderadamente rápido em estações de trabalho de engenharia convencionais. METROPOLE-3D resolve rigorosamente as equações de Maxwell em três dimensões para modelar como a luz incidente não verticalmente é espalhada e transmitida em estruturas não planares. METROPOLE-3D consiste em vários módulos de simulação: simulador de fotomáscara, simulador de exposição, módulo de cozimento pós-exposição e módulo de desenvolvimento 3D. Este simulador foi aplicado a uma ampla gama de problemas de engenharia de prensagem encontrados em processos de fabricação de VLSI de última geração, como análise de capacidade de impressão/fabricação de layout, incluindo problemas de entalhe reflexivo e otimização de uma camada de revestimento anti-reflexo (ARC). Finalmente, um estudo 3D de transformação de contaminação em defeito foi realizado com sucesso usando nosso rigoroso simulador.

Publicação
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E82-C No.6 pp.821-829
Data de publicação
1999/06/25
Publicitada
ISSN online
DOI
Tipo de Manuscrito
Special Section INVITED PAPER (Special Issue on TCAD for Semiconductor Industries)
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