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Deposition of Polymeric Thin Films by Ionization-Assisted Method Deposição de Filmes Finos Poliméricos por Método Assistido por Ionização

Hiroaki USUI

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Resumo:

Filmes finos poliméricos podem ser preparados por deposição física de vapor de várias maneiras, como evaporação direta do polímero, co-evaporação de dois monômeros seguida por reação de poliadição ou policondensação, ou evaporação de um único monômero seguida de polimerização em cadeia. A deposição assistida por ionização (IAD) foi proposta como um novo método de deposição de polímeros que possui características especiais como ativação da reação de polimerização e alinhamento da orientação dipolo. Esses mecanismos foram utilizados para a formação de filmes finos de polímero vinílico e poliureia visando aplicações como diodos emissores de luz orgânicos e dispositivos piezoelétricos.

Publicação
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E83-C No.7 pp.1128-1133
Data de publicação
2000/07/25
Publicitada
ISSN online
DOI
Tipo de Manuscrito
Special Section INVITED PAPER (Special Issue on Organic Molecular Electronics for the 21st Century)
Categoria
Filme fino

autores

Palavra-chave