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Vapor Deposition of Fluoropolymer Thin Films for Antireflection Coating Deposição de vapor de filmes finos de fluoropolímero para revestimento anti-reflexo

Soma YASUI, Fujio OHISHI, Hiroaki USUI

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Resumo:

Filmes finos de Teflon AF 1600 foram preparados por um método de deposição assistida por elétrons (e-assist). A análise IR revelou que a deposição e-assist gera pequena quantidade de grupos polares como o ácido carboxílico na estrutura molecular dos filmes depositados. Os grupos polares contribuíram para aumentar a interação intermolecular e levaram a uma melhoria notável na força de adesão e robustez dos filmes, especialmente quando uma tensão de polarização foi aplicada ao substrato no decurso da deposição e-assistida. Os filmes de Teflon AF depositados por vapor tinham índices de refração de 1.35 a 1.38 e eram eficazes para revestimentos anti-reflexo. O uso da deposição e-assist aumentou ligeiramente o índice de refração como uma compensação para a melhoria da robustez do filme.

Publicação
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E106-C No.6 pp.195-201
Data de publicação
2023/06/01
Publicitada
2022/10/26
ISSN online
1745-1353
DOI
10.1587/transele.2022OMP0006
Tipo de Manuscrito
Special Section PAPER (Special Section on Recent Progress in Organic Molecular Electronics)
Categoria

autores

Soma YASUI
  Tokyo University of Agriculture and Technology
Fujio OHISHI
  Kanagawa University
Hiroaki USUI
  Tokyo University of Agriculture and Technology

Palavra-chave