A funcionalidade de pesquisa está em construção.
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Character Projection Mask Set Optimization for Enhancing Throughput of MCC Projection Systems Otimização do conjunto de máscaras de projeção de caracteres para aumentar o rendimento dos sistemas de projeção MCC

Makoto SUGIHARA, Yusuke MATSUNAGA, Kazuaki MURAKAMI

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Resumo:

A litografia de projeção de caracteres (CP) é utilizada para litografia sem máscara e é um potencial para a futura fabricação de máscaras fotográficas porque pode projetar ICs muito mais rápido do que a projeção de feixe pontual ou a projeção de feixe de formato variável (VSB). Neste artigo, apresentamos primeiro uma metodologia de desenvolvimento de conjunto de máscaras de projeção para sistemas de células múltiplas de colunas (MCC), em que células de colunas podem projetar padrões em paralelo com as litografias CP e VSB. A seguir, apresentamos um modelo INLP (programação não linear inteira), bem como um modelo ILP (programação linear inteira) para otimizar um conjunto de máscaras CP de um sistema de projeção MCC para que o tempo de projeção seja reduzido. Os resultados experimentais mostram que nossa otimização alcançou 33.4% menos tempo de projeção no melhor caso do que uma abordagem ingênua de desenvolvimento de máscara CP. Os resultados experimentais indicam que nosso método de otimização do conjunto de máscaras CP praticamente aumentou os objetos de padrão celular nas máscaras CP e diminuiu a projeção VSB, de modo que alcançou maior rendimento de projeção do que apenas paralelizar duas células de coluna com máscaras CP convencionais.

Publicação
IEICE TRANSACTIONS on Fundamentals Vol.E91-A No.12 pp.3451-3460
Data de publicação
2008/12/01
Publicitada
ISSN online
1745-1337
DOI
10.1093/ietfec/e91-a.12.3451
Tipo de Manuscrito
Special Section PAPER (Special Section on VLSI Design and CAD Algorithms)
Categoria
Design de nível físico

autores

Palavra-chave